[학부 세미나] 11/28(금) 김학준(한국기계연구원) "지속 가능한 반도체 제조를 위한 온실가스, 공기, 물 오염원 저감 혁신 기술 소개"

기계공학부 구성원들의 많은 관심과 참여 부탁드립니다.

▣ 제 목: 지속 가능한 반도체 제조를 위한 온실가스, 공기, 물 오염원 저감 혁신 기술 소개
▣ 연 사: 김학준

▣ 소 속: 한국기계연구원

▣ 일 시: 2025. 11. 28.(Fri) 16:00

▣ 장 소: 제2공학관 B040호

▣ 초 록

지속 가능한 반도체 제조를 위한 온실가스(GHG), 대기오염가스(APG) 및 수질 오염원의 저감 기술은 전 세계적인 탄소중립(Net Zero) 및 환경·사회·지배구조(ESG) 전략의 핵심 요소로 부상하고 있습니다. 특히 삼성전자와 SK하이닉스를 포함한 글로벌 주요 반도체 제조 기업들은 2050년을 목표로 Scope 1·2 배출량의 획기적 감축과 오염원의 자연수준(Natural Level) 배출을 선언하며, 이를 달성하기 위한 혁신적 후처리 및 공정 최적화 기술 개발을 적극 추진하고 있습니다. 이러한 변화는 산업 전반뿐 아니라 학계와 연구기관에서도 매우 중요한 연구 의제로 자리 잡고 있어서 본 강연에서는 기존 반도체 공정 배출물 처리 기술의 구조적 한계를 극복하기 위해 한국기계연구원(KIMM) 정전응용연구실이 개발하고 있는 차세대 지속가능 기술들을 체계적으로 소개하고자 합니다. 주요 내용은 다음과 같습니다.

첫째, 반도체 공정에서 배출되는 난분해성 가스(PFCs 등)를 저에너지로 고효율 처리하기 위한 저에너지 소모형 공정가스 저감 기술.

둘째, 공정 배출 중 생성되는 HF, NOx 등 용해성 가스와 초미세입자를 동시에 처리하면서도 에너지 소비를 크게 절감하는 고효율 Wet EP(Wet Electrostatic Precipitator) 및 저온형 De-NOx 기술.

셋째, FAB 내 물 및 화학물질 사용량을 근본적으로 줄이기 위한 전기화학 기반 폐수 재생 및 자원 회수 기술.

이와 더불어, 본 발표는 반도체 제조 공정의 배출 특성, 오염원의 생성 메커니즘, 후처리 기술 트렌드, 시스템 엔지니어링 관점의 적용 전략 등을 폭넓게 다루며, 차세대 Net-Zero FAB을 구성하는 핵심 요소 기술의 과학적 원리와 산업적 활용 가능성을 제시할 예정입니다. 특히, 본 강연을 통해 학생들은 반도체 초미세(nm) 공정 시대를 견인할 환경·공정 융합기술의 현재와 미래를 이해하고, 향후 반도체 제조의 지속가능성 확보를 위한 R&D 방향성과 연구 기회를 모색하는 데 중요한 통찰을 얻을 수 있을 것입니다.